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非參數化MEMS結構設計的進(jìn)化方法及其在壓阻式壓力傳感器中的應用
來(lái)源:麥姆斯咨詢(xún)  瀏覽次數:324  發(fā)布時(shí)間:2023-11-10

微機電系統(MEMS)器件具有小型化、低成本、可批量生產(chǎn)的特點(diǎn),在消費電子、汽車(chē)電子、航空航天、醫療器械和工業(yè)控制等多個(gè)領(lǐng)域的廣泛應用,使得其在現代社會(huì )中發(fā)揮著(zhù)重要作用。隨著(zhù)科技的進(jìn)步,各領(lǐng)域對MEMS器件性能的要求越來(lái)越嚴格。因此,MEMS相關(guān)研究的主要目標是開(kāi)發(fā)出性能更好的器件。


近日,中國科學(xué)院空天信息創(chuàng )新研究院傳感技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗室聯(lián)合中國科學(xué)院大學(xué)電子電氣與通信工程學(xué)院的研究人員提出了一種新型的基于仿真的MEMS結構進(jìn)化方法,用于設計具有最大自由度(DOF)的非參數化MEMS結構。這種新型設計方法通過(guò)權衡MEMS結構每個(gè)部分的屬性來(lái)實(shí)現半自動(dòng)結構進(jìn)化,并在多次迭代后得到最優(yōu)結果。該方法被用于優(yōu)化壓阻式壓力傳感器(PPS)的壓敏膜片。有限元法(FEM)仿真表明,與沒(méi)有島嶼或正方形島嶼的傳統膜片相比,優(yōu)化后的膜片將外界壓力產(chǎn)生的應力提高了10%至16%,非線(xiàn)性降低了57%至77%,這些改進(jìn)證明了該方法的有效性。


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優(yōu)化目標


壓阻式壓力傳感器是一種利用硅的壓阻特性,通過(guò)產(chǎn)生與輸入壓力成正比的輸出電壓來(lái)測量外部壓力的傳感器。壓阻式壓力傳感器的兩個(gè)最重要的特性是它的靈敏度和輸出電壓的非線(xiàn)性,這兩個(gè)特性決定了其抗干擾性能和壓力測量精度。在所有傳感器配置中,壓敏膜片通過(guò)其撓度將外部壓力轉換為可測量的應力,對這兩個(gè)特性的影響最大,其中恒定壓力下(所有其它參數保持恒定)膜片表面上的應力越大,傳感器的靈敏度越好。同樣,較小的膜片撓度也會(huì )降低傳感器的非線(xiàn)性性能。因此,對于壓阻式壓力傳感器來(lái)說(shuō),設計壓敏膜片是非常重要的。


最簡(jiǎn)單的膜片設計具備平面結構,但表面應力和最大撓度在很大程度上是相互制約的。要想優(yōu)化表面應力,只能減小膜片的厚度,這將使撓度顯著(zhù)增加。為了克服該限制,研究人員開(kāi)發(fā)了一種具有背部島嶼結構的特殊膜片。具有特定形狀的背部島嶼可以降低撓度,同時(shí)集中并增加膜片表面的應力。因此,開(kāi)發(fā)具有最小撓度和最大表面應力的結構,即尋找在相同撓度下應力最大的理想背部島嶼結構,是膜片設計的目標。


優(yōu)化方法


如圖1a所示,使用本項研究工作的進(jìn)化方法優(yōu)化MEMS結構的通用工藝流程包括三個(gè)步驟:建立機械模型、計算?PI(性能指數)矩陣和基于?PI矩陣的結構進(jìn)化。中間需進(jìn)行判斷。如果?PI矩陣滿(mǎn)足要求,則終止優(yōu)化過(guò)程。否則,繼續進(jìn)化方法,并修改機械模型以進(jìn)行下一次迭代。


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圖1 優(yōu)化方法


圖1b顯示了島嶼膜片的壓阻式壓力傳感器的機械模型示意圖,其芯片尺寸為3000μm x 3000μm x 300μm,壓敏膜片被分隔成一個(gè)尺寸為1000μm x 1000μm x 30μm的平面部分和一個(gè)高度為270μm的島嶼部分,其結構不確定。壓阻區域位于膜片背部邊緣的中央。


研究人員采用COMSOL Multiphysics 5.6(一款多物理場(chǎng)仿真軟件)對后續優(yōu)化過(guò)程進(jìn)行有限元法仿真。為了對稱(chēng)和簡(jiǎn)化,只有四分之一是在仿真模型中建立的。優(yōu)化過(guò)程從隨機選擇一個(gè)矩陣開(kāi)始,并將其計算性能指標記作PIinitial,如圖1c所示。圖1d中的最終結構是逐步優(yōu)化方案的結果,該方案最大限度地利用了原始ΔPI矩陣。為了進(jìn)一步優(yōu)化,研究人員根據逐步優(yōu)化方案修改了機械模型,并按照圖1a進(jìn)行了新的仿真。


優(yōu)化過(guò)程


研究人員使用進(jìn)化方法對三種不同的初始島嶼膜片結構進(jìn)行了優(yōu)化,并給出了變化過(guò)程的圖形示例(圖2a)。研究人員對無(wú)島嶼膜片和方形島嶼膜片進(jìn)行了六次優(yōu)化,對跨島嶼膜片進(jìn)行了四次優(yōu)化。不同的初始結構導致了相同的優(yōu)化結果,表明進(jìn)化方法對初始條件不敏感,且有很高的概率達到全面最優(yōu)。圖2b顯示了三種島嶼膜片結構在進(jìn)化過(guò)程中的最大應力和撓度。


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圖2 優(yōu)化過(guò)程


圖2c顯示了三種島嶼膜片結構在進(jìn)化過(guò)程中的PI值,在整個(gè)進(jìn)化過(guò)程中逐漸增加。最終結構的PI值為246,這意味著(zhù)最優(yōu)結構的最大應力比相同撓度下的平面膜片高了246%。


優(yōu)化結果


圖3a顯示了最優(yōu)島嶼膜片的橫向到縱向應力差的有限元法仿真,與優(yōu)化結果相比,研究人員為了便于制造,已對其進(jìn)行了詳細修改。圖3b顯示了最優(yōu)島嶼膜片的撓度有限元法仿真。


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圖3 優(yōu)化結果


圖4顯示了三種不同的島嶼膜片結構:最優(yōu)島嶼膜片、方形島嶼膜片和無(wú)島嶼膜片。研究人員為便于比較其非線(xiàn)性,調整了三種膜片平面部分的厚度以確保它們的表面應力相似。如圖所示,對于指定尺寸,最優(yōu)島嶼膜片上的應力比方形島嶼膜片上的應力大10%,比無(wú)島嶼膜片上的應力大16%。然而,最優(yōu)島嶼膜片的應力非線(xiàn)性最小,為方形島嶼膜片非線(xiàn)性應力的43%,無(wú)島嶼膜片非線(xiàn)性應力的23%。顯然,該最優(yōu)島嶼膜片在增加應力和降低非線(xiàn)性方面具有顯著(zhù)效果。


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圖4 三種不同島嶼膜片結構的對比


制造與特征化


接下來(lái),研究人員使用標準MEMS程序制造具有最優(yōu)島嶼膜片的壓阻式壓力傳感器。圖5a顯示了制造工藝。


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圖5 具有最佳島嶼膜片的壓阻式壓力傳感器的制作


綜上所述,本文提出了一種用于MEMS結構設計的新型半自動(dòng)進(jìn)化方法。優(yōu)化過(guò)程包括三個(gè)步驟:建立機械模型,將待優(yōu)化組件劃分為多個(gè)等尺寸的單元元素;評估每個(gè)元素的屬性,生成一個(gè)載有每個(gè)元素特性的矩陣;并以此矩陣作為指導,優(yōu)化結構直到達到其最大性能。在不需要輸入參數值和先驗知識的情況下,研究人員將進(jìn)化方法應用于優(yōu)化壓阻式壓力傳感器壓敏膜片的結構。三種不同的初始結構均得到最優(yōu)結構表明,該方法對初始條件不敏感,從而成功地避免優(yōu)化求解器收斂到局部最大值。最終結構的仿真和制造設備的實(shí)驗結果表明,通過(guò)該方法獲得的最優(yōu)結構可以增大膜片上的應力并顯著(zhù)降低其非線(xiàn)性。這些有利的性能改進(jìn)證明了研究人員提出的進(jìn)化設計方法的價(jià)值。

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